Dalam proses litografi dan pemprosesan fotoresist, kelembapan yang terdapat pada lapisan fotoresist atau oksida semula jadi pada wafer bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Kelembapan ini akan mengganggu keseimbangan suhu, seterusnya mempengaruhi dos pencahayaan yang digunakan. Selain itu, ia juga akan menyebabkan dimensi kritikal wafer berubah-ubah. Jika lampu pemanas tidak dapat mengekalkan suhu dan tahap kebersihan yang diperlukan, maka variasi suhu tersebut akan berterusan sepanjang proses pembakaran wafer, sehingga ke tahap pembungkusan wafer itu sendiri.
Apa yang penting di sebaliknya
Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer ini dibina menggunakan unsur halogen inframerah gelombang pendek yang berada dalam selubung kuarsa berkualiti tinggi. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan tepat, dengan kawalan spektrum yang baik. Keseimbangan suhu di kawasan yang dipanaskan adalah sekitar ±0.1°C, dan ketepatan pemanasan tetap berada dalam lingkungan ±0.5°C walaupun selepas ribuan kali proses pembakaran. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, dan kita memastikan tiada partikel terbentuk melalui pemantauan secara langsung. Prestasi lampu ini kekal stabil walaupun selepas 5,000 jam operasi, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%.
Dalam proses litografi, lampu ini akan memanaskan kelembapan sebelum proses pembakaran, sekaligus memastikan profil pembakaran yang konsisten. Ini akan mengurangkan kesan negatif akibat efek permukaan, serta memastikan lapisan fotoresist tidak berubah bentuk semasa proses pembakaran. Hasilnya, kepadatan kecacatan berkurangan, kawalan dimensi wafer menjadi lebih tepat, dan masa yang diperlukan untuk proses pembetulan dapat dikurangkan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu hanya memanaskan objek yang perlu dipanaskan, bukan dinding bilik. Tempoh penggantian lampu juga dapat dilanjutkan kerana reka bentuk filamen yang baik serta kawalan tekanan haba yang efektif. Ini seterusnya mengurangkan keperluan stok lampu ganti dan memendekkan masa penyelenggaraan.
Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian yang tepat dari segi penempatan optik, serta memastikan polimer dan komponen optik yang berdekatan berada dalam spesifikasi yang ditetapkan. Lampu ini akan berfungsi dengan baik apabila permukaan objek yang dipanaskan berada dalam bidang fokus. Jika permukaan tersebut tidak berada dalam bidang fokus, keseimbangan suhu akan terjejas. Pastikan pengawal suhu dapat berfungsi dengan baik, dan pastikan bahawa voltan dan arus yang digunakan sesuai dengan spesifikasi stesen tersebut. Lakukan pemeriksaan berkala pada kuarsa untuk mencegah pembentukan lapisan pada permukaannya, serta memastikan keluaran spektrum tetap konsisten.