Hentikan pemborosan waktu untuk menghangatkan udara dalam proses semi-pengolahan
Sejujurnya, cara memanaskan wafer silikon dengan cara menyebarkan udara panas memang sangat lambat. Pada dasarnya, kita harus menunggu udara tersebut melakukan pekerjaan tersebut. Di pabrik yang berkapasitas besar, keterlambatan ini sangat merugikan. Hal ini akan memperlambat seluruh proses produksi.
Kita telah menemukan cara yang lebih baik. Alih-alih menggunakan udara untuk memanaskan wafer, kita menggunakan sensor IR dan pengirim panas yang canggih untuk mentransfer panas melalui radiasi.
Mengapa IR lebih unggul daripada konveksi
Cara konveksi membutuhkan media tertentu agar bisa berfungsi. Sedangkan IR tidak memerlukan media tersebut. Pengirim panas IR mengirim foton langsung ke permukaan wafer. Kita tidak perlu membuang waktu untuk memanaskan seluruh ruang di dalam chamber terlebih dahulu. Prosesnya hampir instan.
Saat membuat sistem semacam ini, kita perlu memperhatikan “penyesuaian panjang gelombang”. Kita menyetel pengirim panas sedemikian rupa sehingga energi panas benar-benar masuk ke dalam bahan wafer, bukan hanya memantul di permukaannya saja. Inilah perbedaan antara lampu pemanas yang hanya memberikan rasa hangat dan lampu yang benar-benar dapat memasak makanan.
Mengatasi masalah inersia termal
Oven tradisional memiliki tingkat inersia termal yang tinggi. Butuh waktu lama untuk memanaskan oven tersebut, dan waktu pendinginan pun juga lama. Jika kita ingin melakukan siklus suhu yang presisi, hal ini akan menjadi mimpi buruk.
IR berbeda. Ia hampir tidak memiliki inersia sama sekali. Kita dapat mengubah suhu dalam hitungan milidetik. Sangat cepat. Hal ini memungkinkan kita untuk mempercepat proses produksi, sehingga lebih banyak wafer dapat diproses setiap jamnya.
Kelemahan (Karena selalu ada kelemahan)
Kecepatan memang bagus, tetapi ada konsekuensinya. IR bersifat terarah. Jika wafer berada di posisi yang tidak tepat atau pengirim panasnya tidak berfungsi dengan baik, maka akan timbul titik-titik panas yang berlebihan. Kita tidak bisa sekadar memasang lampu IR dan berharap semuanya berjalan lancar.
Kita membutuhkan sensor yang akurat untuk memantau permukaan wafer secara real-time, serta menyesuaikan daya yang digunakan untuk setiap area. Selain itu, sistem pendingin juga harus mampu menangani lonjakan suhu yang cepat tersebut, agar wafer tidak rusak.