Hentikan pembaziran masa: Mengapa pemanasan IR lebih baik daripada penggunaan udara panas untuk pemprosesan wafer
Jika anda masih menggunakan cara pemanasan udara panas untuk pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda sedang membuang masa menunggu udara tersebut melakukan kerja yang sepatutnya dilakukannya.
Fikirkanlah. Dengan penggunaan udara panas, udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, kemudian barulah haba tersebut dapat disalurkan ke permukaan wafer. Ini merupakan proses yang memerlukan masa yang lama. Pemanasan IR pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara sebagai perantara. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Tiada masa menunggu, tiada kelewatan. Hanya haba sahaja yang dihasilkan.
Kelebihan utama adalah kelajuan.
Dalam ketuhar konveksi, kita perlu berhadapan dengan masalah berkaitan jisim haba udara. Prosesnya sangat lambat; memerlukan masa yang lama untuk memanaskan atau menyejukkan wafer. Sebaliknya, lampu IR dapat memanaskan wafer dengan cepat. Kita boleh mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa saat sahaja, bukan minit-minit. Jika ini dilakukan untuk setiap kumpulan wafer, masa yang dapat dijimatkan akan menjadi sangat besar.
Namun, ada satu perkara yang perlu diperhatikan: jarak antara pemancar IR dan wafer. Jika jaraknya terlalu dekat, permukaan wafer akan menjadi terlalu panas. Jika jaraknya terlalu jauh, proses pemanasan akan menjadi lebih perlahan. Saya biasanya menyarankan agar kita memilih panjang gelombang yang sesuai. Panjang gelombang pendek dapat meresap lebih dalam ke dalam bahan, manakala panjang gelombang sederhana adalah pilihan terbaik jika kita hanya ingin memanaskan permukaan wafer sahaja.
Namun, pemanasan IR bukanlah sesuatu yang sempurna. Berbeza dengan udara panas yang merata, pemanasan IR boleh menyebabkan perbezaan suhu pada permukaan wafer. Jika wafer terdiri daripada bahan yang berbeza atau mempunyai ketebalan yang berbeza, suhu wafer akan berubah-ubah. Untuk mengelakkan hal ini, anda memerlukan pengawal PID dan termokopel yang responsif. Tanpa alat-alat ini, suhu wafer mungkin akan melebihi had yang ditetapkan. Ingat juga untuk memastikan sistem penyejukan mampu menangani pelepasan haba yang cepat, agar suhu di dalam bilik pemprosesan tidak melonjak tinggi.