在光刻工厂中，曝光后的烘烤过程至关重要，它直接决定了产品尺寸控制的精度。如果晶圆上的温度偏差达到半度，就足以使线宽超出合格范围，这样一来，之前投入的数小时曝光和蚀刻时间就白费了。因此，我们的PEB加热器被设计成能够始终维持稳定的温度，确保每批次产品的质量。
关键在于内部结构
我们使用的是短波红外发射器，其石英-卤素光源的设计使得能量能够快速而均匀地传递到光阻层中。这样，烘烤区域的温度均匀性可达到亚毫米级别，而整个晶圆的温度波动则控制在±0.1°C以内。该系统的重复性非常高，因为它具备闭环反馈机制、高精度传感器，以及能够快速稳定下来的热质量。该设备可在1-100级洁净室中使用，且不会产生任何颗粒物，从而确保缺陷率保持在最低水平——几乎为零。
在光刻过程中，PEB的温度决定了化学放大效应及最终线宽。这种加热器能够快速加热光阻层，同时保持其温度稳定，进而确保不同批次产品的质量一致性。此外，由于采用了高效的红外加热方式，因此能耗更低，而且由于加热器及相关部件能够24/7持续工作，因此也不容易出现意外停机情况。如此一来，就能实现精确的尺寸控制，减少因温度波动而导致的质量问题。
不过，如果不做好规划的话，就会遇到麻烦：安装时必须确保其与烘烤站的几何结构、工具接口以及排气系统相匹配。虽然有适配套件可用，但对准精度要求很高，否则就会导致温度均匀性下降。
当反应室的反射率以及晶圆的发射率保持稳定时，该设备的性能才能得到最佳发挥。如果更换涂层或载体，那么温度分布就会发生变化，这时就需要重新进行校准。首先需要通过多点温度检测来确定基准值，之后系统就能一直保持稳定的温度。