半導体製造工程での無駄な時間の削減をしましょう。 正直に言えば、シリコンウェーハを加熱するために部屋中に熱風を送り込むという方法は非常に非効率的です。つまり、空気が仕事をしてくれるのを待つだけであり、大量生産の現場ではこの遅れが大きな問題となります。これは他の作業の進行を阻害する大きな障害となりま...

時間の無駄をやめましょう：ウェーハの加熱において、なぜIR加熱が強制送風より優れているのか もし今も半導体の深層加工に強制送風を使っているのであれば、実際には空気が仕事をこなすのを待っているだけです。 考えてみてください。強制送風の場合、まず空気を温めなければならず、その後でその熱をウェーハに伝え...

マシンを加熱するのではなく、ウェーハ自体を加熱しましょう。 半導体ウェーハの取り扱いに慣れている方なら、その苦労がどれほどか理解しているはずです。ウェーハを高温に保つ必要がありますが、高価な機器全体を巨大なヒーターとして使いたくはありません。 一般的な赤外線ヒーターは、熱をあちこちに散らしてしまい...

もう、ランプの故障によってウェーハのバッチが台無しになるのを防ぎましょう。 こういう最悪の状況を想像してみてください：高負荷のIR照射を行っていると、クォーツ管が破損してしまいます。これは単なる停止時間に過ぎません。ガラスの破片やタングステンフィラメントが直接ウェーハに降り注ぎます。一瞬で、全ての...

爆発を防ぐために：MEMSウェーハを安全に乾燥させる方法 現実を言えば、化学的な洗浄処理の後にMEMSセンサーのウェーハを乾燥させることは、まるで火遊びのようなものです。加熱要素が、率直に言って爆発性の高い溶剤の蒸気のすぐそばにあるのです。普通の赤外線ランプをその環境に置いておくだけでは、うまくい...

高性能な赤外線ウェーハヒーター：実際に効果的な半導体製造向けソリューション もし工場を運営しているなら、その苦労はよくわかるでしょう。信頼性の高い機器が必要ですが、有名ブランドの製品は高価すぎます。 そこで、私たちは異なるアプローチを採用しました。それは、直接取り替え可能な形で使える産業用赤外線ヒ...

リソグラフィーの工程においては、たった一歩間違えただけで、製品の品質が大きく左右されることがあります。清掃後に残った水分や水跡は、見た目上の問題だけでなく、粒子の発生原因となり、フォトレジストの密着性を悪化させます。従来の接触式乾燥方法では、傷や粒子の移動のリスクがあります。その結果、廃棄されるウ...

フォトレジストやウェーハ上の自然酸化膜に含まれる水分は、単なる学術的な問題ではありません。これによってサーマルバランスが崩れ、露光量も乱れ、重要な寸法の精度も低下してしまいます。もしヒーターランプが適切な温度や清潔度を維持できない場合、その変動はソフトベイクやハードベイクの過程でも続き、最終的には...

リソグラフィーの工程では、わずか2°Cの温度変動だけでCDの均一性が乱れ、ウェーハが再処理が必要になってしまいます。そのため、サイクルごとに一定の範囲内で温度を維持することが不可欠です。SK15赤外線ランプは、まさにこの要件を満たすように設計されています。 内部構造上の重要なポイント SK15は、...