時間を無駄にして空気を温めるのはやめましょう：IRベンチランプの利点
もし今でもクリーンルームで強制対流方式を使っているなら、実質的に半日が待ち時間として消費されていることになります。
考えてみてください。空気を温めてから、その空気が部品を温めるのを待つわけですが、空気は熱を伝えるのが非常に悪いです。半導体の高度な処理では、このような遅れが問題となります。結局、チャンバー全体が適切な温度になるのを何分も待たなければなりません。これは本当に非効率的です。
ここでIRが役立ちます。
IRは空気を操作する必要はありません。電磁波を利用するため、熱は光速で伝わります。基板に当たるとすぐに熱エネルギーに変わります。
これは全く異なる方法です。ゆっくりと温めるのではなく、的確に加熱できます。対流式オーブンのような遅さはありません。数秒で目的の温度に到達します。
作業スペースへの設置
私たちは、できるだけ少ないスペースを占めるようにこのランプを設計しました。IRは方向性があるため、巨大なダクトや騒音の大きな送風機は不要です。これにより、クリーンルームのISO評価が向上します。PIDコントローラーと接続すれば、完璧な精度が得られます。
ただし、注意点もあります。
IRの熱量は強力です。薄い材料や厚さが不均一な部品を扱う場合、過剰な熱が発生する可能性があります。距離や出力密度をしっかり管理しなければ、材料が焦げてしまいます。
真の利点：処理速度の向上
最終的には、実際にどれだけ多くの作業ができるかが重要です。
10分かかる加熱時間を30秒に短縮できると想像してみてください。1時間あたりの処理量が大幅に向上します。これは、半導体加工を拡大したいと思っている企業が取るべき手段です。
より迅速な処理が可能になり、作業スペースも有効活用できます。ちなみに、ベンチから反射される熱に対応できる十分な冷却ファンを準備しておくことをお勧めします。